半导体制程中硅烷(SiH4)是一种特种气体,在半导体工业中主要用于制作高纯多晶硅、通过CVD(化学气相沉积)工艺制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔离层、多晶硅欧姆接触层和异质等。 废气处理设备处理SIH4废气 SiH4在使用后会产生的废气,如果未经废气处理设备治理就直接高浓度对外排放,对人体和环境的恶劣影响是无法估量的。 硅烷作为一种提供硅组分的气体源,反应性和自燃性强烈,有非常宽的自发着火范围和极强的燃烧能量,毒性很大,如果人体吸入硅烷就会强烈刺激呼吸器官,是一种高危险性的气体。 在半导体工厂中,因工作区域一般离中心废气处理系统远,为了避免在冗长的排气过程中引发非预期的气体泄漏,局部聚